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Caracterización de películas delgadas metálicas por medio de xps y cálculo de densidad de estados

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Academic year: 2020

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Fig. 1. Espectros XPS alta resolución a distintos tiempos de ero- ero-sión para la ventana de Si, correspondientes a la muestra 3.
Fig. 3. (a)-(b) Cálculos de estructura de bandas para CoSi 2  y NiSi 2 . La energía de Fermi (E F =0) se indica por la línea punteada.
Fig. 4. (a)-(e) Densidad de estados total y proyectada para Co y Si. Las líneas punteadas y rasgadas remarcan la contribución a la DOS total de cada átomo
Fig. 5. (a)-(e) Densidad de estados total y proyectada para Ni y Si. Las líneas punteadas y rasgadas remarcan la contribución a la DOS total de cada átomo

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