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6.   Sintesis y aplicación de selenitos como precursores para capas absorbentes 89

6.2   Experimental 91

En  este  apartado  se  discutirá  el  procedimiento  experimental  seguido  para  la  síntesis   de  selenitos  mixtos,  así  como  la  dispersión,  deposición  y  tratamientos  térmicos  para   transformación  de  los  precursores  en  el  material  de  interés.    

6.2.1 Reactivos de partida

Como   fuente   de   metales   se   han   utilizado   nitratos   de   cobre,   indio   y   galio   para   los   precursores   de   calcopirita,   además   de   nitrato   de   zinc   y   cloruro   de   estaño   para   los   precursores  de  kesterita.    El  dióxido  de  selenio  y  amoníaco  han  sido  utilizados  como   fuente  de  selenio  y  para  conseguir  la  precipitación  de  los  selenitos,  respectivamente.   Para   preparar   las   pastas   que   van   a   ser   depositadas,   se   ha   utilizado   etanol   como   medio,   además   etanolamina   y   trietanolamina   como   agentes   complejantes   y   para   mejorar   la   mojabilidad   de   las   pastas   con   el   sustrato.   Para   los   tratamientos   en   atmósfera  de  calcógenos  se  han  utilizado  selenio  y  azufre  elemental.  En  la  tabla  1.1.   se  dan  los  detalles  en  cuanto  a  la  pureza  de  los  reactivos  utilizados.  

               

Tabla  6.1  -­‐  Reactivos  empleados  en  la  deposición  de  capas  por  suspensión  de  partículas.  

Precursor   Proveedor   Pureza  (%)  

Cu(NO3)2⋅3H2O  (nitrato  de  cobre  trihidratado)   Fluka   99  

In(NO3)3⋅XH2O  (nitrato  de  indio  hidratado)   Aldrich   99,99  

Ga(NO3)3⋅XH2O  (nitrato  de  galio  hidratado)   Aldrich   99,99  

Zn(NO3)2⋅6H2O  (nitrato  de  zinc  hexahidratado)   Fluka   99+  

SnCl4⋅5H2O  (cloruro  de  estaño  pentahidratado)   Riedel-­‐deHaën   98+  

H2NCH2CH2OH  (MEA)   Fluka   99+  

N(CH2CH2OH)3  (TEA)   Riedel-­‐deHaën   Puriss.  

C2H5OH  (Etanol)   Scharlau   Abs.  

S  (azufre)   J.T.  Baker   99,5  

Se  (selenio)   Merck   99,5  

 

6.2.2 Preparación de las muestras

La  preparación  de  las  películas  delgadas  por  dispersión  de  nanopartículas  se  divide  en   tres  procesos  básicos:  La  precipitación  de  polvo  precursor,  la  dispersión  de  este  polvo   en   un   medio   para   obtención   de   una   pasta   a   ser   depositada   sobre   el   sustrato,   y   el   tratamiento  térmico  de  la  capa  en  atmosfera  de  calcógenos  para  cristalización  de  la   estructura  deseada.  

6.2.2.1 Precipitación del polvo precursor

El   diagrama   de   flujo   del   proceso   está   representado   en   la   Figura   6.2.   Para   la   precipitación   de   los   polvos   se   han   preparado   dos   disoluciones   iniciales   distintas.   La   disolución  precursora  se  ha  obtenido  disolviendo  las  cantidades  correspondientes  de   las  sales  metálicas  en  125  mL  agua  destilada,  formando  una  disolución  transparente   azul   claro.   La   cantidad   de   metales   del   grupo   III   se   ha   fijado   en   2,8   mmol.   Separadamente,  se  han  disuelto  1,1  g  (10  mmol)  de  dióxido  de  selenio  en  25  mL  de   agua   destilada,   formando   una   disolución   transparente   incolora.   Una   vez   homogeneizadas,  se  han  mezclado  las  dos  disoluciones  para  obtener  la  disolución  de   reacción.  A  continuación  se  ha  elevado  el  pH  a  7  de  este  medio  de  reacción  a  través   del  goteo  de  la  disolución  de  amoniaco,  resultando  un  precipitado  azulado  o  verdoso.  

 

 

Figura  6.2  -­‐  Diagrama  de  flujo  del  proceso  de  precipitación  de  nanopartículas.    

La  relación  molar  entre  los  metales  en  los  polvos  obtenidos  se  encuentran  la  Tabla   6.2.  

Tabla  6.2  –  Composiciones  de  los  polvos  precursores  de  CIGS  obtenidos.  

Polvo   Cu/In+Ga   Ga/In+Ga  

PA   0,8   0,2  

PE   0,9   0,3  

PM   0,7   0,3  

 

Como  polvos  precursor  de  CZTS  se  ha  trabajado  con  una  muestra  llamada  “muestra   13”.  La  relación  entre  metales  en  esta  muestra  es  de  Cu/Zn+Sn  =  0,8  e  Zn/Sn  =  1,2.  

6.2.2.2 Deposición de las capas

Una  vez  lavados,  los  polvos  han  sido  molturados  y  re-­‐dispersados  en  una  mezcla  de   etanol   y   amina.   Las   cantidades   de   estos   compuestos   presente   en   las   pastas   se   han   determinado  empíricamente  para  cada  uno  de  los  casos,  basadas  en  la  mojabilidad  de   la   pasta   con   el   sustrato   y   la   estabilidad   de   esta   pasta   durante   el   proceso   térmico.   Usualmente   las   pastas   están   constituidas   de   0,1   g   del   polvo   precursor,   además   de  

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0,08   g   de   trietanolamina   (TEA)   en   0,25   g   de   etanol,   o   0,05   g   de   monoetanolamina   (MEA)  en  1  g  de  etanol,  dependiendo  de  la  amina  utilizada.  

 

Las   pastas   han   sido   depositadas   utilizando   el   método   doctor   Blade   descrito   en   el   apartado  2.10.4.  A  continuación,  las  películas  han  sido  calcinadas  en  placa  calefactora   a  350  °C  durante  1  minuto  para  la  evaporación  total  del  disolvente  y  la  combustión  de   la  materia  orgánica  remanente.  Estas  etapas  de  deposición  y  tratamiento  térmico  han   sido  repetidas  dos  veces  para  cada  muestra,  de  modo  a  conseguir  una  homogeneidad   y  espesor  de  la  capa  optimas.    

6.2.2.3 Tratamiento térmico en atmósfera controlada

Una  vez  tratadas  térmicamente  en  aire,  las  películas  CIGS  han  sido  sometidas  a  los   procesos   de   reducción   y   selenización   en   un   horno   RTP   (Rapid   Thermal   Process)   comercial.  La  etapa  de  reducción  consiste  en  un  calentamiento  extremamente  rápido   de   la   muestra   hasta   la   temperatura   de   500°   C   utilizando   una   atmósfera   reductora   (mezcla   de   N2   con   un   5%   en   volumen   de   H2).   El   proceso   de   selenización   se   ha  

realizado   en   atmósfera   de   N2,   utilizando   6   mg   de   Se   dentro   del   porta-­‐muestras.  

Típicamente,  la  temperatura  ha  sido  de  550°  C    durante  5  minutos.  Previamente  al   tratamiento   térmico   en   ambas   etapas   han   sido   precedidas   de   una   etapa   de   purga,   donde   el   N2   ha   sido   introducido   en   la   cámara   del   horno   durante   4-­‐5   minutos   para  

conseguir   la   eliminación   del   oxígeno   remanente.   Las   curvas   experimentales   de   temperatura   en   función   del   tiempo,   típicas   de   cada   uno   de   los   procesos   llevados   a   cabo  se  representan  en  la  Figura  6.3  y  Figura  6.4.  

 

 

 

Figura  6.4  –  Curva  temperatura  X  tiempo  típica  del  proceso  de  calcogenización.    

Las   pelicuas   CZTS   han   sido   reducidas   y   selenizadas   o   sulfurizadas   en   horno   tubular   con   atmósfera   controlada.   La   etapa   de   reducción   consiste   en   un   calentamiento   la   muestra  hasta  la  temperatura  de  500°  C  utilizando  una  atmósfera  reductora  (mezcla   de  N2  con  un  5%  en  volumen  de  H2),  con  una  meseta  de  20  minutos.  A  continuación,  

en  la  etapa  de  selenización  se  ha  realizado  en  atmósfera  de  N2,  utilizando  6  mg  de  Se  

o  S  dentro  del  porta-­‐muestras.    

6.2.2.4 Aplicación como capas absorbentes en células solares

Para   obtención   de   células   solares   las   capas   han   sido   depositadas   sobre   vidrio   recubierto  de  molibdeno  y  sometidas  a  los  procesos  de  fabricación  típicos  de  células   solares.    

 

Las  capas  CIGS  han  sido  tratadas  en  horno  RTP  de  acuerdo  con  el  proceso  utilizado  en   el  Institut  de  Recherche  et  Développement  sur  l’Énergie  Photovoltaïque  (IRDEP).  Las   capas   de   CZTS   han   sido   procesadas   en   horno   tubular,   siguiendo   el   proceso   de   selenización   aplicado   en   el   Institut   de   Recerca   en   Energía   de   Catalunya   (IREC).   Las   capas   de   CZTS   sulfurizadas   ha   sido   tratadas   también   en   horno   tubular   según   el   proceso   de   IRDEP.   Una   vez   tratadas,   las   células   solares   han   sido   finalizadas   con   la   deposición  de  las  capas  típicas  de  este  tipo  de  dispositivos:  CdS/i-­‐ZnO/ITO.